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标题: 工程头盔造型ProE中逆向设计运用 [打印本页]

作者: 卡卡 时间: 2018-1-10 16:20
标题: 工程头盔造型ProE中逆向设计运用
本教程详细分析了在点云逆向造型中的数据利用方法，通过对本例的点云数据进行形状的分析和分离，从而在简化构建方法的同时获得高质量高精度的曲面形状；同时在本教程中你将可以学到“预期截面法”和“假想截面法”两种在逆向造型中非常有用的截面处理方法；同时本教程也会帮助新用户在逆向造型中如何分清主次，选择合适的创建步骤。

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逆向造型在动手创建截面之前一定要分析整个形状的组成，这样，在我们在使用原始的点云来创建截面的时候就知道哪些数据应该要贴合，哪些数据可以通过二次构面的方式来贴合，这样也才能更好的发现隐藏在各种细节下的主干形状。
首先，对于我们这个头盔，图中标示的A、B和C三部分，显然是依附于主干形状上的装饰或强化特征，在我们造型中应该首先把它们剥离。

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在我们的逆向造型中，注意要使用“预期截面法”，所谓的“预期截面法”是我自己总结出的一个截面构建方法（已申请国家专利哈哈），在我们的逆向造型过程中，难免需要创建很多辅助的截面，而我们在创建这些截面的时候，同一个形状我们可以用很多种方式来表达，比如圆弧、椭圆弧、多义线、二次曲线等等，虽然都能达到同一形状，但是使用的约束方法却对我们的构面产生影响。就本例而言，头盔的上部我们预期使用圆轨迹的可变扫描方法，那么我就需要在创建上部的辅助截面的时候有目的的在不同位置的辅助截面都用同一表达方式，如果都可以使用同一表达方式，那么我们便可以使用圆轨迹扫描法；反之，表明我们开始预想的形状不对，但最坏的结果我们也可以利用这些截面来进行边界混成或其它的方法。总之，我们的辅助截面一方面是方便构面的辅助线，另一方面我们也可以通过构建辅助截面来理解我们将要创建的形状组成方式。
基于上面的原则，我们创建头盔的轮廓截面，当然上部我用了半椭圆。然后为了创建其它位置的截面，使用重新造型（Restyle）的平面点云相交方法取得了一些其它位置的参考线。

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很幸运，我们在上部的截面构建中，都可以使用一段椭圆弧非常理想地拟合到参考线上，这表明我们开始的预想正确。上部首先用圆轨迹的可变扫描，下部使用造型（style）的四边面来构建，这样就完成了我们的主干形状。

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或许到这里，有的朋友会说，靠，这么简单－－－其实就这么简单

顶部的突起大家都是轻车熟路了，剪切后再补上就可以了，当然需要先完成相切部分然后在加上突起的部分。

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脸部的缺口使用一个拉伸然后合并就行了，对于下巴侧位是一个典型的消失面，确定并提取消失线是关键，至于凹入深度的控制便是辅助线决定的了。

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一个扫描面和主干面的相交自然得到我们的护颚位。然后是薄壳，因为我们外表面的两条加强棱是不参与薄壳的，所以我们选择这样的时机来进行薄壳。

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借助重新造型的参考线和点云的参考，构建两条加强棱线。然后通过两个扫出来构建两条实体带，实际这两条实体带并不是外观形状，我们是用来作为后面倒圆角的参考。

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然后就是倒圆角，而且是倒大大的圆角，实现一个非常理想而简洁的渐变效果。当然我们需要预留一段足够的位置来实现消失效果。然后把正后方的汇聚效果通过一个面的patch来实现。

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消失面的处理，造型（Style）的COS曲线发挥作用的时候来了。

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最后，当然是完成了

作者: 长今逢命苦 时间: 2020-8-3 10:39
又打开灵感的大门，我顺便顶一下！

作者: 北梦木兮 时间: 2020-9-17 14:05
不错不错，楼主您辛苦了。。。

作者: nmwo7x 时间: 2020-9-24 20:01
前排支持下分享

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